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IBM西门子推进7埃堆叠:下一代芯片的胜负手,正在离开晶圆厂

马国华 2026.10.15

“下一代芯片的胜负手,正在从晶圆厂车间的光刻精度,转移到EDA模型里的堆叠参数定义。”

芯片行业里最贵的几张牌——光刻机、HBM(高带宽存储芯片,AI芯片里最紧俏的堆叠内存)、先进封装产线——今年都在涨价,大家的眼睛都盯在设备交期和内存报价上。但真正有分量的下一步,可能根本没在工厂里发生。2026年10月,工博会和湾芯展前后,IBM与西门子方面对外释放的信息显示,两家将联手推进7埃纳米堆叠架构研究。所谓7埃,就是0.7纳米,比当前最先进的量产制程还要再往前一档。他们或许要做的,是把下一代芯片的规格先行锁进EDA(芯片设计自动化软件,相当于造芯片前先在电脑里把每一层电路、每一个信号、每一道工艺参数画清楚、验明白)模型里。这件事在行业里的分量,远比它看起来要重。

这不是一场普通的研发合作。过去两年,关于下一代制程的讨论大多集中在光刻机和HBM上,但IBM和西门子这次的策略路径,可能意味着把下一代芯片的规格定义从物理制造环节向上游的模型环节挪了一格。谁先在EDA里把堆叠参数签了,谁就相当于在所有人动工之前,先把图纸的标注权限拿到了手里。

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